"Радіотехнічні поля, сигнали, апарати та системи"

Технологія отримання розвинутої поверхні у вакуумному реакційному середовищі

Сидоренко С. Б., Бевза О. М., Сидоренко Я. С.

Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут iмені Ігоря Сікорського», м. Київ, Україна

Анотація

Представлено методи формування розвинутих поверхні в реакційному середовищі за допомогою термоіонного осадження та магнетронного розпилення, обговорено результати досліджень цих поверхонь на базі конденсату Al-O.

Ключові слова: розвинута поверхня, термоіонне осадження, магнетронне розпилення, реакційний газ.

Аннотация

Представлено методи формирования развитой поверхности в реакционной среде с помощью термоионного осаждения и магнетронного распыления, обсуждено результаты исследований этих поверхностей на база конденсату Al-O.

Ключевые слова: развитая поверхность, термоионное осаждение, магнетронное распыление, реакционный газ.

Abstract

The methods for producing of developed surfaces in the reaction environment are presented. The developed surfaces are produced by using a thermionic deposition and magnetron sputtering. The results of these surfaces research are discussed.

Keywords: developed surface, thermionic deposition, magnetron sputtering, reactionary gas.

Додатки:

Сидоренко С. Б., Бевза О. М., Сидоренко Я. С.

[Тези]

462 Kb

...